Сформированный недавно японский консорциум Rapidus уже
Об этом сегодня сообщило информационное агентство
Около 50 инженеров ASML помогут Rapidus установить литографические системы нидерландского производства на пилотной линии на острове Хоккайдо. Соответствующее оборудование ориентировано на работу со сверхжёстким ультрафиолетовым излучением (EUV), необходимым для производства чипов по технологическим нормам тоньше 7 нм. За последующие пять лет ASML собирается увеличить фонд оплаты труда своих специалистов на территории Японии на 40 %. В префектуре Кумамото, где своё совместное предприятие строит тайваньская компания TSMC, у ASML тоже работают 10 специалистов, их количество в дальнейшем планируется увеличить до 40 человек. Основным технологическим донором Rapidus должна стать американская корпорация IBM, которая и
Япония станет пятым регионом планеты, где будет использоваться EUV-оборудование ASML после США, Тайваня, Южной Кореи и Ирландии. В последней из стран уже давно функционирует предприятие Intel по производству процессоров и чипсетов, оно подвергается плановой модернизации. Прочие поставщики литографического оборудования тоже расширяют своё присутствие в Японии. Например, это делают американские Applied Materials и Lam Research. В свою очередь, японские производители специального оборудования стремятся расширить присутствие за пределами страны, в непосредственной близости к клиентам, так что эта «миграция» носит двунаправленный характер.
Читайте нас: